Танталовый лист 0,4х40х100 мм ТВЧ в Йошкар-Оле

Танталовый лист марки ТВ-10, легированный вольфрамом, обычно демонстрирует несколько лучшую устойчивость к водородному охрупчиванию по сравнению с чистым танталом (ТВЧ) в высокотемпературных газовых средах. Легирующие элементы могут снижать диффузию водорода в кристаллическую решетку. Тем не менее, полное исключение охрупчивания невозможно.

Танталовый лист марки ТВ-5, содержащий 5% вольфрама, дает преимущества при изготовлении высокоточных деталей благодаря своей повышенной прочности и твердости по сравнению с чистым танталом. Это обеспечивает лучшую стабильность размеров после механической обработки и формовки, минимизируя деформации.

Танталовый лист марки ТВЧ сохраняет свои свойства в широком спектре кислых сред при температурах выше 150°C. Это включает концентрированные серную, соляную, фосфорную, хромовую кислоты, а также большинство органических кислот. Исключения составляют фтористоводородная кислота и среды, содержащие фторид-ионы.

При формировании биметаллических конструкций танталовый лист взаимодействует с другими металлами по-разному. Сплавление или сварка тантала с большинством металлов сложны из-за образования хрупких интерметаллидов. Часто применяют взрывную сварку или механическое соединение. Важно учитывать разницу в тепловом расширении.

Модуль упругости (Юнга) танталового листа составляет приблизительно 186 ГПа. Этот параметр характеризует жесткость материала и его сопротивление упругой деформации под нагрузкой.

Для обеспечения наилучшей герметичности при использовании танталового листа в вакуумных системах предпочтительны сварные соединения. Вакуумная электронно-лучевая или аргонодуговая сварка с тщательной защитой от атмосферных газов гарантирует минимальные поры и высокую герметичность. Применяются также вакуумные фланцевые соединения с медными прокладками.

Особенности обработки поверхности танталового листа для улучшения адгезии покрытий включают механическую очистку (шлифовка, пескоструйная обработка), химическое травление (для удаления оксидов и жиров) и активацию поверхности. Целью является создание чистой, слегка шероховатой поверхности без загрязнений.